长江日报4月22日讯 22日从武汉知识产权保护中心开放日活动上获悉，4月26日起，我市对光电子信息产业外观设计专利预审申请将进行常态化受理，至此，发明、实用新型、外观设计三种专利类型都能接受预审。

武汉知识产权保护中心有关人士表示，此举补全了武汉市光电子信息产业专利快速预审服务，有效保障了产业专利全面快速地布局，可更好地服务武汉地区创业主体。

据介绍，对光电子信息产业领域外观设计专利预审进行申请时，专利申请主体应通过中国（武汉）知识产权保护中心预审系统（网址: www.whippc.org.cn）提交专利预审申请，申请主体可点击“通知公告”→“中国（武汉）知识产权保护中心预审管理平台电子申请系统注册使用提示”，获取预审系统相关操作说明。受理时间是自4月26日起工作日8:30-17:30。

据了解，武汉知识产权保护中心目前主要面向武汉光电子信息产业开展快速审查、快速确权、快速维权、专利导航为一体的知识产权快速协同保护工作。

运行一年多来，我市已有653家光电子信息领域企事业单位进入武汉保护中心快速审查服务主体备案库，武汉保护中心累计受理专利（发明和实用新型）预审申请1391件；进入快速通道766件，获得授权的专利数量累计已达620件，审查周期压缩70%。

开放日活动上，武汉知识产权保护中心开展了专利申请预审现场口审服务，开展了“国家知识产权局新一代专利检索及分析系统”培训。据悉，开展专利申请预审现场口审服务，是武汉知识产权保护中心学党史、解难题、办实事的具体举措之一。采用现场口审的形式与预审员开展面对面案件审理交流，实现高效交互沟通，对当天提交的4件发明、1件实用新型和1件外观设计专利预审申请即审即结，预审周期大大压缩，服务质量大为提升。（长江日报记者唐煜 刘睿彻 通讯员孙晶 胡华涛）

【编辑：张玲】

（作者：唐煜 刘睿彻)